CN
EN
濺射靶材主要用于真空鍍膜設備中，通過物理氣相沉積（PVD）在基片上涂覆薄膜層，以增加新的功能或創建微小的連接，如薄膜晶體管（TFT）。
用于制備濺射靶材的材料種類繁多，主要取決于最終的用途，因此既可以由純金屬制成，也可以由非常復雜的合金材料制成。
先(xian)導薄(bo)膜材(cai)(cai)料為(wei)各行業客戶提供不(bu)同材(cai)(cai)料所制成(cheng)的平面靶材(cai)(cai)和旋轉靶材(cai)(cai)，我(wo)們的制備技(ji)術先(xian)進，保證產品達到最佳的使用(yong)性能。
二維碼掃描關心我們的