鎳靶可經過重力作用濺射造成膜層，適用于磁儲備媒質、半導體材料、LED等制造行業元器玻璃鍍膜。

屬性英文符號:Ni
含量:4N+
形式:剖面靶；高速旋轉靶
外裝:鋁制不銹鋼
典型性體積密度:8.94g/cm3
常規大小:平行面靶: 2400x500x30mm
飛速轉動靶: L3000mm
以外的別的的尺寸可開發


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