濺射靶材主要用于真空鍍膜設備中，通過物理氣相沉積（PVD）在基片上涂覆薄膜層，以增加新的功能或創建微小的連接，如薄膜晶體管（TFT）。

用于制備濺射靶材的材料種類繁多，主要取決于最終的用途，因此既可以由純金屬制成，也可以由非常復雜的合金材料制成。

先導薄膜材(cai)(cai)(cai)料為各(ge)行業客戶提供(gong)不同材(cai)(cai)(cai)料所制成(cheng)的平(ping)面(mian)靶(ba)(ba)材(cai)(cai)(cai)和(he)旋轉靶(ba)(ba)材(cai)(cai)(cai)，我們的制備技術先進，保證產品達到最佳的使用(yong)性能。